Foto: ASML
Chipjättar enas om ny standard för ASML:s supermaskiner
För att öka produktiviteten
Chiptillverkarna TSMC, Samsung och Intel har nu enats om att skrota en årtionden gammal standard till förmån för en standard som ska göra det möjligt att göra chip med dubbelt så stora fotomasker, de "mallar" som används för att rita mönstren på kiselbrickorna. Förändringen kommer då företagen bättre kan utnyttja chipmaskin-tillverkarens ASML nya så kallade High-NA EUV-maskiner, maskiner som kan rita extremt mycket finare mönster än tidigare EUV-maskiner. Att man ansåg sig behöva förändra storleken på fotomasker från 6x6 tum till 6x12 beror på att man då kommer att kunna öka produktiviteten på de nya High-NA EUV-maskinerna med 40 procent. Det här innebär dock även att hela försörjningskedjan runt chipproduktion ställs om. Allt från masktillverkare, rengöringsutrustning och mätverktyg till hanteringsrobotar i fabrikerna måste anpassas till den nya standarden. Intel har redan börjat använda ASML:s High-NA EUV-maskiner, vilka kostar runt 4 miljarder kronor styck, till att göra sina Panther Lake-chip. Samsung planerar att börja göra chip med maskinerna någon gång 2028, medan TSMC uppges dra igång produktionen med de nya maskinerna någon gång 2030. Även SK Hynix, världens tredje största chiptillverkare efter TSMC och Samsung har planer på att gå över till större fotomasker. De planerar att börja använda ASML:s nya maskiner 2028.
bloomberg.com
PC,
Hårdvara,
TSMC,
Samsung,
Intel,
ASML,
High-NA EUV,
halvledare,
Panther Lake
Via
arstechnica.com
ASML:s High-NA EUV-maskin
High-NA EUV-maskinen är världens mest avancerade litografimaskin och tillverkas exklusivt av nederländska ASML till en prislapp på drygt fyra miljarder kronor styck. Utrustningen väger 150 ton, kräver sex fraktflygplan för leverans och använder extremt ultraviolett ljus (13,5 nanometers våglängd) för att rita mikroskopiska kretsmönster på kiselbrickor.
Genom att höja den numeriska aperturen (NA) från 0,33 till 0,55 klarar den nyutvecklade optiken av att skapa mönster ner till 8 nanometer, vilket är avgörande för tillverkningen av framtida chip under 2-nanometersklassen. Maskinens unika optik halverade dock ursprungligen exponeringytan per svep, vilket tvingade halvledarjättar som TSMC, Intel och Samsung att enas om en ny standard med dubbelt så stora fotomasker för att behålla tillverkningshastigheten.
43°0Kolla in ett reportage om ASMLDet enda företaget i världen som gör maskiner för avancerade chip44°0ASML blir största ägare i MistralStor europeisk techaffär
44.4°
0Wille Wilhelmsson
igår kl 16:30
+
Per månad
39 kr
Betala löpande per månad. Ingen bindningstid.
Starta prenumeration
Per år
299 kr
Enklast och billigast, bara 25 kronor i månaden. Betala löpande per år. Ingen bindningstid.
Prova 14 dagar gratis innan du bestämmer dig.
Starta gratis provperiod
Engångsköp
349 kr
Slipp återkommande betalningar, betala ett år i taget. Betala med kort eller Swish.
Köp utan prenumeration